量子材料公用實驗室使用申請表 Application Form
申請時間(Time)：
 2025-07-07 11:36:21AM
申請使用的儀器(Facilities)：
 電感耦合電漿蝕刻系統 Inductively Coupled Plasma Etching System (型號：EIS-700)
Mask Aligner 光罩對準紫外光微影系統 (EVG620)
Reactive-Ion Etching 反應式離子蝕刻系統
熱蒸鍍 (Evaporator)
超高解析電子束微影系統 ELS-7000
Laser Writer 雷射聚焦直寫系統 (DWL66)
DBFIB
SEM
AFM
氧化物深蝕刻機 (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching System 型號：RIE-10iP)
Oxford Plasmalab 80 Plus RIE System
SEM/EBL(Raith Pioneer Two)
物理性質量測系統(PPMS), Physical Property Measurement System
震動樣品磁化儀(VSM), Vibrating Sample Magnetometer
掃描式電子顯微鏡(E-beam writer), Scanning ElectronMicroscope日本ELIONIX ERA-8800
超導量子干涉震動磁量儀(SQUID VSM)
反射式勞厄散射儀 (型號 : IPX-YGR-LC)
申請進入無塵室
操作模式(Operator service)：
 委託操作Operator service needed 自行操作No operator service needed
申請人姓名(Applicant Name)：
申請人Email(Applicant Email)：
連絡電話(Applicant phone) ：
申請單位/學校(Institute)：
 (例中研院物理所 ex. Institute of Physics,AC)
指導教授姓名(Professor Name)：
指導教授Email (Professor Email)：
所內付費主持人(Paying PI's name)：
研究敘述(Research description)：
Verification Code: code
*是否參加過實驗室安全衛生教育訓練? 是 否