中央研究院奈米核心設施及共用設備申請案
(English Version
)
申請日期
2008-12-02 13:52:23PM
申請儀器名稱
1 FEG-TEM
2 nanoparticles fabrication system
3 ICP Etching System
4 DBFIB
5 Laser Writer
6 E-beam writer (ERA-8800)
7 E-beam writer (ELS-7000)
8 Mask Aligner
9 RIE
10 Ion Mill (PIPS)
11 VSM
12 Evaporator
使用優先類別
(1)中央研究院內之奈米國家型科技計畫
(2)中央研究院內之其他奈米相關計畫
(3)中央研究院外有奈米合作計畫之研究單位
(4)國內學術及產業界有奈米相關計畫者
(5)共用設備; 不適用優先權
計畫名稱
計畫編號
(若無請填 N/A)
申請單位
(例:中研院物理所)
計畫主持人姓名
請務必填寫
計畫主持人E-Mail
請務必填寫
申請人姓名
請務必填寫
申請人E-Mail
請務必填寫
申請人電話
請務必填寫
研究敘述
請敘述該研究計畫內容以及實驗樣品的尺寸．以便於審核作業時間．謝謝！！
操作模式
委託操作
自行操作
付費方式
院內人士
院外人士