雷射曝光機 （Laser Writer）

使用規則及注意事項

• 本機台設置專業技術人員一名，負責管理維護及操作設備。由於是屬光罩製作，原則上不開放使用者，以收件服務方式為主。
• 光罩製作優先順序依核心設施規定。
• 請遵照 光罩製作申請流程
• 如申請通過，請填寫此送件表(中文版) (English version)，並隨同繪圖檔案寄給儀器管理者。
• 在檔案轉檔時，送件者必須親自到現場確定檔案無誤。
• 光罩製作過程中非屬機台操作之失誤 (如申請表填寫錯誤、圖檔繪製轉檔錯誤)皆由送件者自行負責。
• 送件者必須自行繪製圖檔，可接受的檔為*.dxf (AutoCAD)、*.gdsⅡ(L-Edit)，其中dxf檔請存成AutoCAD R12 /LT2 DXF，並請將與光罩製作無關的圖層刪除。
• 基本的繪畫規則請參照http://www.prism.princeton.edu/PRISM_cleanroom/equip/Heidelberg/Rules for Heidelberg.pdf 以及 光罩製作畫圖規則。
• 顯影的條件與設計的圖形有相關性，所以不保證每個1μm的圖形都可以正確呈現。
• 4.5吋光罩圖案最大有效的區域不超過10cm x 10cm。
• 最小線寬請大於1μm，區域不可以小於1cm，repeat不可以超過16x16。
• 請善用Block之功能，以利減小檔案容量。
• 光罩製作收費依曝光時間而定，若違反光罩製作畫圖規則，將視情形加收咨詢費。詳見光罩製作收費規定。
• 違反畫圖規則被退之送件案, 重送三次仍未完全改善者，奈米核心設施得視情形拒絕受理此送件案。

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