儀器分類
以下儀器分為兩類: 核心設施 (core facilities) 及共用設備(shared facilities).
核心設施之申請以研究計畫為單位，並依其計畫分類而有不同之使用優先權。
共用設備基本上開放中研院內人士使用。其中不經由本管理單位執行之設備(未列於線上申請頁者)，若欲使用可直接與儀器管理者聯繫。亦可與本管理單位聯繫，我們將很樂意為您轉達您的需求給各別儀器管理者。
核心設施使用之優先順序如下：
(註: 機台使用非常擁擠時，可由管理者依優先順序安排。機台使用情形一般時，則依使用者預約為準。)
(1) 中央研究院內之奈米國家型科技計畫
(2) 中央研究院內之其他奈米相關計畫
(3) 中央研究院外有奈米合作計畫之研究單位
(4) 國內學術及產業界有奈米相關計畫者
共用設備之使用方式權限依各儀器規定，請洽各儀器聯絡人。
儀器使用訓練: 請於網路上申請，申請案通過審核後由儀器管理者安排訓練課程。細節請參見個別儀器網頁。 (註: 三個月(含)以上沒有使用儀器者，將失去自行使用執照，須重新訓練。)
儀器介紹
核心設施 (Core facilities)
場發射穿透式電子顯微鏡 FEG-TEM 儀器位置 :中研院物理所B208B 室
系統功能簡介: 材料結構及元素分析等
型號: JEOL JEM-2100 Field Emission Transmission Electron Microscope
雙槍聚焦粒子束系統 Dual Beam Focused Ion Beam system 儀器位置: 中研院物理所 無塵室
系統功能簡介: 以聚焦離子束並以氣相沈積方式在選定位置鍍上奈米金屬細線，線材須由使用的反應氣體決定。以聚焦離子束在選定位置上作奈米尺度的切割。位置的選定及沈積、切割的結果由電子顯微鏡觀測。本機台同時有場發射掃瞄式電子顯微鏡(SEM)之功能。
電子束曝光系統 E-Beam Writer System 儀器位置: 中研院物理所 無塵室
系統功能簡介: 提供一個可以程式精確控制位置與計量的奈米尺度電子束，用以把樣品上已旋鋪好的高分子阻膠作曝光的動作。在顯影之後可在高分子阻膠上形成所預先設計好的圖案。再經由lift-off或蝕刻的動作後，可把在高分子阻膠上的圖案轉成實際所要的材料結構。曝光速度慢但線寬小，適合在樣品上作直寫(direct write)的工作。
雷射曝光機 Laser Writer 儀器位置: 中研院物理所 無塵室
系統功能簡介: 類似e-beam writer的功能，但以雷射光替代電子束光源以改變高分子阻膠的結構，在顯影及蝕刻等動作後亦可製作成各種圖案。比起e-beam writer優點是速度快，但最小線寬比e-beam曝光所形成的圖案約大2個數量級。適合作製程用的光罩。
儀器介紹
共用設備 (Shared facilities)
以下設備以自行操作為主 (部分儀器亦接受委託操作，詳洽儀器管理者)
中研院物理所-- TEM 樣品準備室 (TEM sample preparation room)
中研院物理所/應科中心-- Class 1K 無塵室內製程設備(含黃光室) (Class 1000 clean room)
中研院物理所-- 電子束曝光機 (E beam writer ERA-8800)
中研院物理所-- 奈米壓印機 (Nanoimprinter)
中研院應科中心 -- 快速雷射掃瞄共軛焦分光光譜顯微鏡 (Confocal Spectral Microscope)
以下設備以委託操作為主 (詳洽儀器管理者)
中研院化學所-- 基質輔助雷射脫附游離飛行時間質譜儀 (MALDI-TOF Mass Spectrometer)
以下設備以合作計畫使用為主 (詳洽儀器管理者)
中研院化學所-- 沾筆奈米顯微系統 (Dip-Pen Nanolithography system)
中研院原分所--多通道恆電位暨阻抗分析儀 (Multi-channel potentiostats)
中研院物理所-- 雷射熱擴散量測系統 (Thermal diffusivity measurement system)
中研院物理所--奈米粉末及薄膜製備系統 (Nano particles and thin film fabrication system)