Elionix ERA-8800 SEM/E-beam writer

 

  

型號: Elionix ERA-8800 (30keV)

Capabilities:

本系統裝有NPGS (Nanometer Pattern Generation System)

可曝出的最小線寬與間距原則上可達100nm以下,但實際上可達線寬是由所需的前後製程要求, 及所需用的電子阻劑性質及剖面圖決定。

 

Specifications

  Electron gun:  ZrO/W thermal field emission

  Resolution:  1.5nm(30KV), 5nm(1KV)

  Acceleration voltage:  0.3~30KV

  Magnification:  20 ~600000

  Specimen driving range: X:0~40mm   Y:0~80mm  Z:4~36mm  Rotation:360 degree

  Electrical shift of field of view:  X-Y: ±30 μm  Rotation:360 degree

  Holder size: 14mm x 14mm (max)

 

設備負責人:陳啟東博士;  管理者: 賴水金 27880058  ext 4052)

 

ERA-8800 E-beam writer 使用規則

 

 


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