近場光學顯微術是一項不受繞射極限限制的光學顯微技術，其空間解析度僅取決於偵測器的大小。在1928年，Synge首先提出此一設計概念： (sub-wavelength aperture)使用次波長孔穴於近場區域掃瞄，raster scanned images，壓電距離控制(piezoelectric position control)，(metal coatings )金屬鍍膜以侷限光場接收區域。
最直接的近場光學量測方式，即是使用已鍍上鋁金屬薄膜的光纖孔穴探針作為光學訊號接收器。然而，如何達到控制探針與樣品保持在近場(near field)的偵測區域內，即是保持探針與樣品的距離，對近場光學而言，是非常重要的。目前最常使用的方式為剪力式(shear force mode)的迴饋方式(利用石英音叉之振幅在靠近樣品表時所造成的振幅衰減變化)。所以，可以同時取得樣品表面的形貌(AFM)與近場光學訊號 (NSOM)。
